發(fā)布時間：2023-10-13

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一項前沿光學(xué)技術(shù)研究，它主要研究的是一種利用高能加速器產(chǎn)生極紫外光源的方案，可以用來驅(qū)動多臺光刻機(jī)同時進(jìn)行芯片制造。不過目前它僅從原理上驗證了SSMB光源可應(yīng)用于EUV，距離真正能用于光刻系統(tǒng)仍有距離

發(fā)布時間：2023-10-11

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納米演進(jìn)的過程中，英特爾往常2年的迭代周期被拉長到接近5年，被臺積電在2018年前后超越。一名英特爾研發(fā)人士直言，英特爾在領(lǐng)先時期對產(chǎn)品定義過于自信，疊加了太多功能，最終結(jié)果是用DUV（深紫外光刻機(jī)

發(fā)布時間：2023-10-07

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納米演進(jìn)的過程中，英特爾往常2年的迭代周期被拉長到接近5年，被臺積電在2018年前后超越。一名英特爾研發(fā)人士直言，英特爾在領(lǐng)先時期對產(chǎn)品定義過于自信，疊加了太多功能，最終結(jié)果是用DUV（深紫外光刻機(jī)

發(fā)布時間：2023-10-07

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爾往常2年的迭代周期被拉長到接近5年，被臺積電在2018年前后超越。一名英特爾研發(fā)人士直言，英特爾在領(lǐng)先時期對產(chǎn)品定義過于自信，疊加了太多功能，最終結(jié)果是用DUV（深紫外光刻機(jī)）去做功能復(fù)雜的下一代產(chǎn)

發(fā)布時間：2023-09-22

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是從2017年開啟的，屬于一項前沿光學(xué)技術(shù)研究，它主要研究的是一種利用高能加速器產(chǎn)生極紫外光源的方案，可以用來驅(qū)動多臺光刻機(jī)同時進(jìn)行芯片制造。不過目前它僅從原理上驗證了SSMB光源可應(yīng)用于EUV，距離

發(fā)布時間：2023-09-19

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——Stereolithography，這種被稱為立體印刷的新技術(shù)，成為3D打印的鼻祖。 霍爾利用的材料是一種可以在紫外光照射下固化的樹脂，通過計算機(jī)控制紫外光束的移動讓一層層的樹脂形成特定的圖形，疊加在一起就形成

發(fā)布時間：2023-08-26

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研發(fā)的EUV（極紫外光刻）技術(shù)，公司大量研發(fā)在美國。此外，其光刻機(jī)產(chǎn)品用到的光源、光柵等光學(xué)元件嚴(yán)重依賴美系供應(yīng)商，2022年阿斯麥采購自北美地區(qū)的光刻機(jī)組件金額占總采購金額的13%。 另一邊，中國大

發(fā)布時間：2023-08-26

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不甘放棄中國市場。阿斯麥能從一家名不見經(jīng)傳的荷蘭光刻機(jī)創(chuàng)業(yè)公司擊敗日本尼康、佳能，成為具有壟斷地位的光刻機(jī)供應(yīng)商，靠的正是美國協(xié)助研發(fā)的EUV（極紫外光刻）技術(shù)，公司大量研發(fā)在美國。此外，其光刻機(jī)產(chǎn)品