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開10nm及以下制程產(chǎn)品驗證測試。 今年7月底，日本限制23種半導體制造設備出口的新規(guī)正式生效，限制類型為10-14納米以下的先進制程設備。按照規(guī)定，向白名單之外的“其他國家”出口時要將設備規(guī)格、用途
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小。2019年，全球小于10nm和10-22nm晶片分別占市場的2%和8%，一共只占10%，其余中低端芯片占據(jù)九成市場。 中國中低端半導體產(chǎn)業(yè)制造具備規(guī)模和成本優(yōu)勢。中國中低端芯片制造與世界先進水平之
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能容納更多晶體管。容納了更多晶體管，芯片的性能就會更好。 入門級單片機、物聯(lián)網(wǎng)單片機、汽車單片機等部件，只需要90nm及以上的納米制程。制程達到10nm到20nm標準的芯片，就可以應用于中高端手機、電
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年12月被美國商務部列入實體清單，美國供應商要在獲得政府許可的情況下才能向中芯國際供應產(chǎn)品。此外，美國還制裁了中芯國際的大客戶華為，令其無法為華為生產(chǎn)芯片。而據(jù)美國商務部公告，將對所有用于10nm及以
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the unlicensed sale to the Chinese firm of equipment that can be used to fabricate semiconductors of 10nm
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據(jù)美國商務部公告，將對所有用于10nm及以下制程的獨特設備（如EUV光刻機）出口采取“推定拒絕”的審批政策。因此，盡管中芯國際可以繼續(xù)為客戶提供12/14nm晶圓的代工服務，但在涉及EUV的研發(fā)活動中
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equipment related to 10nm and below semiconductors to SMIC and restrictions on the export of less
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光刻機。 ? 為什么是7nm “10nm”“7nm”“5nm”這些詞大家想必都不陌生。2018年，中微半導體成功研制7nm的刻蝕機，這是國產(chǎn)造芯的一大進步。（但是成功研制刻蝕機并不代表我們就有能夠制造
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